| XPS是一种应用广泛的表面分析方法（10nm以内），可对周期表中除了H, He外的所有元素进行定性、定量和价态分析；结合离子束刻蚀可进行片状或薄膜材料的深度分析。在纳米材料、高分子材料、材料的腐蚀与防护、各类功能薄膜的机理研究、催化剂研究与失效等方面具有不可替代的作用，在化学、化工、物理、新材料、电子工业、能源、冶金、生物医学和环境科学中应用广泛。仪器由具备单色化XPS、平行成像XPS、离子散射谱ISS、反射电子能量损失谱REELS、紫外光电子谱UPS、ARXPS分析的主机和原位制备腔室、光催化反应室、惰性气体传输及真空互联系统等组成。 |
